Maqnetron püskürtmə örtüyü yeni fiziki buxar örtük üsuludur. O, bərk səthi bombalayan yüksək sürətli enerji ion şüası yaratmaq üçün vakuumda birləşməni sürətləndirmək üçün ion mənbəyi tərəfindən yaradılan ionlardan istifadə edir. İonlar bərk səthdəki atomlarla kinetik enerji mübadiləsi aparırlar ki, bərk səthdəki atomlar bərki tərk edib substrat səthində çökək. Bombardman edilmiş bərk cisim püskürtmə hədəfi adlanan püskürən çöküntü filminin hazırlanması üçün xammaldır. Qısaca desək, elektron silah sistemi istehlak olunan materiala elektronları buraxmaq və fokuslamaq üçün istifadə olunur, bu da püskürən atomların impuls çevrilmə prinsipinə əməl etməsinə və yüksək kinetik enerjiyə malik materialdan ayrılaraq substrata doğru uçmasına və bir filmə çökməsinə səbəb olur. Bu istehlak materialına püskürən hədəf material deyilir. İnkişaf etdirilmiş nisbətən yetkin bir texnologiya olaraq Magnetron püskürtmə bir çox sahələrdə tətbiq edilmişdir. Buxarlanma ilə örtülmə üsulu ilə müqayisədə, bir çox aspektlərdə olduqca açıq üstünlüklərə malikdir. Yarımkeçirici inteqral sxemlərdə, günəş fotovoltaiklərində, qeyd daşıyıcılarında, planar displeylərdə və iş parçasının səthi örtüklərində müxtəlif növ püskürən hədəflərdən geniş istifadə edilmişdir.
Püskürtmə hədəfi əsasən hədəf blankından, arxa boşqabdan və digər hissələrdən ibarətdir, hədəf blankı yüksək sürətli ion şüası ilə bombardman edilən hədəf materialdır və püskürtmə hədəfinin əsas hissəsinə aiddir, püskürtmə örtüyü prosesində hədəf blankı vurulur. ionları, onun səth atomları püskürtülür və elektron nazik təbəqə yaratmaq üçün substrata yerləşdirilir; yüksək saflıqda metalın aşağı gücü və püskürtmə hədəfinin püskürtmə prosesini başa çatdırmaq üçün xüsusi bir maşında quraşdırılmasına ehtiyac olduğundan, maşının daxili hissəsi yüksək gərginlikli, yüksək vakuum mühitidir. Buna görə də, ultra yüksək təmizlikli metalların püskürtmə hədəfi blankları müxtəlif qaynaq prosesləri vasitəsilə arxa panellə birləşdirilməlidir və arxa panel əsasən püskürtmə hədəfini fiksasiya rolunu oynayır və yaxşı keçiriciliyə və istilik keçiriciliyinə malik olmalıdır.
Püskürtmə hədəflərinin bir çox növləri var, hətta eyni materialdan püskürtmə hədəfləri fərqli spesifikasiyalara malikdir. Müxtəlif təsnifat üsullarına görə, püskürtmə hədəfləri müxtəlif kateqoriyalara bölünə bilər və əsas təsnifatlar aşağıdakılardır:
Formaya görə təsnifat
Uzun hədəf
Kvadrat hədəf
Dairəvi hədəf, boru hədəfi
Kimyəvi tərkibinə görə təsnifat
Metal hədəf
Yüngül hədəf
Seramik Qarışıq Hədəflər
Tətbiq sahəsinə görə təsnifat
Yarımkeçirici çip hədəfləri, düz panel ekran hədəfləri, günəş batareyası hədəfləri, məlumat saxlama hədəfləri, alət dəyişdirmə hədəfləri, elektron cihaz hədəfləri, rəng dekorasiya hədəfləri və s.
Aşağı çirk tərkibi
Hamar səth
Dəqiq ölçü tolerantlığı
Yüksək sıxlıq
Aşağı qaz tərkibi
Vahid daxili quruluş
Müştəri elektron poçtla RFQ göndərir
- material
- Saflıq
- Ölçü
- Kəmiyyət
- Rəsm
E-poçt vasitəsilə 24 saat ərzində cavab verin
- Qiymət
- Çatdırılma dəyəri
- Göndərmə vaxtı
Detalları təsdiqləyin
- Ödəmə şərtləri
- Ticarət şərtləri
- Qablaşdırma detalları
- Çatdırılma vaxtı
Sənədlərdən birini təsdiqləyin
- Alış sifarişi
- Proforma faktura
- Rəsmi sitat
Ödəmənin şərtləri
- T/T
- PayPal
- AliPay
- Kredit kartı
İstehsal planını buraxın
Detalları təsdiqləyin
Ticarət fakturası
Qablaşdırma siyahısı
Şəkillərin qablaşdırılması
Keyfiyyət Sertifikatı
Nəqliyyat Yolu
Ekspres ilə: DHL, FedEx, TNT, UPS
Hava ilə
dəniz
Müştərilər gömrük rəsmiləşdirilməsini həyata keçirir və paketi alırlar
Növbəti əməkdaşlığı səbirsizliklə gözləyirik
EN 
AR
BG
HR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
HI
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
LT
SR
SK
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
MS
GA
CY
BE
KA
BN
BS
MN
NE
MY
TG
UZ
LB